国家集成电路设计杭州产业化基地企业孵化器

  一期占地约18亩,建筑面积20000平方米,共四幢大楼。平面设计采用院落型围合空间,建筑风格简雅大气,园区内花木葱郁,绿树成荫,环境非常优美。  大楼采用浅进深的大柱网全框架结构,空间组合非常灵活。楼高为四层到六层,平均层高底层为4.2米,二、三层为3.9米,四至六层为3.6米。  建筑面积1号楼4350平方米,2号楼3450平方米,3号楼6000平方米,4号楼6150平方米,楼面荷载标准每平方米3.5千牛。  建筑外墙采用花岗岩墙裙和高级面砖铺贴墙身,优质铝合金门窗。楼内配置有7台国内名牌电梯,预留户式中央空调机位,网络光纤每层预留通道,电话门子预设充分。采用双路供用,电力充足保证。  整个一期大楼采用先进的电子安保系统和人工安保24小时值守。办公区分隔采用钢化玻璃和轻质防火隔断,根据入驻企业规模提供500平方米、600平方米、700平方米到1000平方米、2000平方米的成建制空间划分,各入驻企业均有独立专属的门面,拥有优越的公司形象。园内楼层实行一卡通,所有楼层和大门均设置门禁系统。
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